Die Nanoimprint Lithography (NIL) ist ein innovatives Verfahren zur Herstellung nanoskaliger Strukturen, das in der Mikro- und Nanofabrikation eingesetzt wird. Bei dieser Technik wird ein präzise geformter Stempel auf eine dünne Schicht eines polymeren Materials gedrückt, wodurch die Struktur des Stempels auf das Substrat übertragen wird. Dieser Prozess geschieht in mehreren Schritten:
Die NIL-Technik ermöglicht die Herstellung von hochpräzisen und kostengünstigen Nanostrukturen und findet Anwendung in verschiedenen Bereichen, einschließlich der Halbleiterindustrie, Optoelektronik und Biomedizin.
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