Ferroelectric Thin Films sind dünne Schichten von ferroelectricen Materialien, die eine spontane Polarisation aufweisen, die umkehrbar ist. Diese Materialien sind charakterisiert durch ihre Fähigkeit, die elektrische Polarisation in Abhängigkeit von einem externen elektrischen Feld zu ändern, was sie für Anwendungen in der Speichertechnologie, Sensorik und Aktuatorik besonders interessant macht. Die Herstellung dieser Filme erfolgt häufig durch Techniken wie Molekularstrahlepitaxie oder Sputtern, um eine präzise Kontrolle über die Schichtdicke und -qualität zu gewährleisten.
Die Eigenschaften von ferroelectricen Dünnschichten sind stark von ihrer Struktur und Morphologie abhängig. Beispielsweise kann die Kristallstruktur durch die Substratmaterialien und Wachstumsbedingungen beeinflusst werden, was zu unterschiedlichen elektrischen Eigenschaften führt. Zudem ermöglicht die Kombination von Ferroelectricität mit anderen Funktionalitäten, wie in Multifunktionalen Materialien, innovative Anwendungen in der Nanoelektronik und der Energieumwandlung.
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